光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) 參考價(jià)：面議
光刻機(jī)/紫外曝光機(jī)該公司是目前世界上早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以...
顯影機(jī)-勻膠機(jī) 參考價(jià)：面議
顯影機(jī)-勻膠機(jī)顯影機(jī) /濕法刻蝕機(jī)德國(guó)品質(zhì)（配有防污染內(nèi)襯，標(biāo)配兩個(gè)大小吸盤(pán)，性能優(yōu)于美國(guó)同類(lèi)品牌）高精度，高可靠性，耐腐蝕，來(lái)源德國(guó)，多程序控制。
勻膠機(jī)、旋涂?jī)x（德國(guó)產(chǎn)、高性能） 參考價(jià)：面議
勻膠機(jī)、旋涂?jī)x（德國(guó)產(chǎn)、高性能）SPIN150i單片勻膠機(jī)/旋涂?jī)x具有廣泛應(yīng)用，包括甩干，沖洗，清潔，涂膠。臺(tái)式設(shè)計(jì)，無(wú)縫全塑料材質(zhì)， 有天然聚丙烯（NPP）和...
無(wú)掩膜曝光機(jī)-光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
無(wú)掩膜曝光機(jī)-光刻機(jī)美國(guó)IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無(wú)掩模曝光技術(shù)，已成為無(wú)掩...
狹縫擠壓型涂布儀-勻膠機(jī) 參考價(jià)：面議
狹縫擠壓型涂布儀-勻膠機(jī)狹縫擠壓型涂布儀夾縫式擠壓型涂布儀（Slot Die Coater）可以用于可復(fù)制重復(fù)性測(cè)試。歸功于桌面小型化的設(shè)計(jì)。它也可以大幅降低材...
硅穿孔工藝設(shè)備-光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
硅穿孔工藝設(shè)備-光刻機(jī)晶圓和晶圓之間制作垂直導(dǎo)通，實(shí)現(xiàn)芯片之間互連的新技術(shù)。能夠使芯片在三維方向堆疊的密度大，芯片之間的互連線短，外形尺寸小，并且大大改善芯片速...
spin coater勻膠機(jī) 參考價(jià)：面議
spin coater勻膠機(jī)既在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類(lèi)膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)...
全自動(dòng)光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
全自動(dòng)光刻機(jī)公司開(kāi)發(fā)并生產(chǎn)用于半導(dǎo)體、MEMS、LED及納米技術(shù)相關(guān)的實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)領(lǐng)域的光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)和甩膠機(jī)，是韓國(guó)*家研發(fā)并商業(yè)化光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)的企業(yè)，始終...
激光直寫(xiě)無(wú)掩膜光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
激光直寫(xiě)無(wú)掩膜光刻機(jī)紫外光直寫(xiě)曝光 ，無(wú)需掩模，大幅節(jié)約了掩模加工費(fèi)用，靈活性高，可直接通過(guò)電腦設(shè)計(jì)光刻圖形，并可根據(jù)設(shè)計(jì)要求隨意調(diào)整，可升級(jí)開(kāi)放性系統(tǒng)設(shè)計(jì)，按...
納米壓印-光刻機(jī) 參考價(jià)：650000
納米壓印-光刻機(jī)緊湊型滾筒納米壓印機(jī)我們的桌面R2P納米打印機(jī)是原型設(shè)計(jì)，實(shí)驗(yàn)和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的理想工具。臺(tái)式R2P納米壓印機(jī)單元適用于小規(guī)模納米壓印光刻工作。該設(shè)備...
負(fù)性光刻膠 （SU-8）-光刻機(jī)用 參考價(jià)：10000
負(fù)性光刻膠 （SU-8）-光刻機(jī)用SNR負(fù)性光刻膠，針對(duì)微機(jī)械加工微電子應(yīng)用，高對(duì)比度，環(huán)氧樹(shù)脂類(lèi)負(fù)性光刻膠。具有垂直側(cè)壁的高縱橫比成像近紫外（350-400n...
勻膠機(jī)，旋涂?jī)x 參考價(jià)：面議
勻膠機(jī)，旋涂?jī)x其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同, 也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。
納米壓印系統(tǒng)-光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
納米壓印系統(tǒng)-光刻機(jī)介紹了一個(gè)臺(tái)式、獨(dú)立的納米壓印平臺(tái)。該平臺(tái)提供了一個(gè)帶有微型定位夾具的機(jī)械平臺(tái)，用于安裝納米壓印室、紫外線固化
勻膠機(jī) 參考價(jià)：面議
勻膠機(jī)其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同, 也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。
mask aligner半自動(dòng)光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
mask aligner半自動(dòng)光刻機(jī)該公司是目前世界上早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究...
無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫(xiě)系統(tǒng) 參考價(jià)：800000
無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫(xiě)系統(tǒng)是一個(gè)高價(jià)值的直寫(xiě)激光光刻機(jī)系統(tǒng)，面向大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)尋求擴(kuò)大他們的能力。它用亞微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蝕劑涂層表面大面...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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